場發(fā)射電鏡是電子顯微鏡的一種。廣泛用于生物學、醫(yī)學、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質礦物、商品檢驗、產品生產質量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及公安刑偵物證分析。可以觀察和檢測非均相有機材料、無機材料及在上述微米、納米級樣品的表面特征。

 

場發(fā)射分熱場和冷場，共性是分辨率高。熱場的束流大些，適合進行分析，但維護成本相對較高，維護要求高。冷場做表面形貌觀測是適合的，相對而言維護成本低些，維護要求不算高。

 

冷熱場發(fā)射電鏡有哪些區(qū)別？

 

1、適用范圍不同。

 

冷場發(fā)射掃描電鏡是一種用于材料科學、化學領域的分析儀器，而熱場發(fā)射掃描電鏡是一種用于物理學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器。熱場發(fā)射掃描電鏡使用范圍更廣。

 

2、技術指標不同。

 

冷場發(fā)射掃描電鏡：

 

辨率：1.0nm (15kV)，2.0nm (1kV)，1.4nm(1KV)入射電子減速功能。放大倍率：×20 ~ ×800,000。加速電壓：0.5 ~ 30kV。X射線能譜儀分辨率/有效面積：不低于133eV，10mm2。

 

熱場發(fā)射掃描電鏡：

 

放大倍數(shù)：35—90萬倍。分辨率：工作電壓15kV時分辨率為1.0nm。加速電壓：0.2Kv—30Kv。能譜：探測元素范圍B5-U92。能量分辨率：136eV。

 

3、主要功能不同。

 

冷場發(fā)射掃描電鏡是超顯微、形貌與成分分析相結合。而熱場發(fā)射掃描電鏡是物理學，材料科學，能源科學技術。